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微纳加工平台 | 纳米级光栅光刻工艺代工

日期:2026-02-28 17:41 来源: 编辑:admin

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纳米级光栅作为光通信、光学器件及光子集成的功能器件,其制备面临三大技术瓶颈:周期精度控制难(需达±5nm以内)、高深宽比刻蚀侧壁粗糙度控制难(需Ra<3nm)、大面积均匀性难(需全片均匀性>95%)。

广东省科学院半导体研究所微纳加工平台(MicroNanoLab)依托10年行业积淀与5000+成功案例,构建了覆盖电子束曝光(Electron Beam Lithography, EBL)、激光直写、ICP刻蚀的全链条纳米级光栅加工能力体系。平台配备VOYAGER Max电子束曝光系统与oxford ICP刻蚀设备,支持2-8英寸多材料衬底,已为光通信、光学器件、超表面光学等领域1000+客户提供代工服务。

(一)服务能力建设

1.超精密光刻工艺矩阵

电子束曝光(EBL):采用50kV加速电压、线宽≤50nm、套刻精度±25nm的直写工艺,支持任意周期光栅图形生成。适用衬底包括Si、SiO

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